專業(yè)執(zhí)著 精益求精
CMP研磨墊
CMP工藝是通過表面化學(xué)作用和機(jī)械研磨的技術(shù)結(jié)合來實(shí)現(xiàn)晶圓表面微米/納米級不同材料的去除,從而達(dá)到晶圓表面納米級平坦化,使下一步的光刻工藝得以進(jìn)行。
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上??票人箤?shí)業(yè)有限公司經(jīng)過數(shù)十載的歷練,公司已發(fā)展成集生產(chǎn)、貿(mào)易、銷售為一體的綜合型企業(yè)。從單一的農(nóng)業(yè)領(lǐng)域,逐步向建筑、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療、衛(wèi)浴、新能源、通訊等多元化領(lǐng)域發(fā)展。
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